台积电用上英伟达计算光刻平台生产

英伟达，半导体界之英杰也，宣示于世，台积电与新思科技，此二巨擘将携手用其计算光刻之平台，以加速半导体芯片之制造，并欲破其物理之极限，推进至下一代。英伟达之创始人兼首席执政官黄仁勋言：“计算光刻者，乃芯片制造之基也。吾辈借cuLitho与新算法之力，较于今之基于CPU之法，工艺大有改进。”

英伟达复确言，台积电已用cuLitho计算光刻之平台，以速其下一代芯片技术之研发。又创应用生成式人工智能之算法，以增益cuLitho计算光刻平台之用，与加速计算并施，使工作流程又增两倍之速。台积电之董事长兼首席执政官魏哲家曰：“吾辈与英伟达合，将GPU加速运算融入台积电之工作流程，遂致性能大进，吞吐量大增，周期时间大减，功耗要求亦降。”计算光刻之术，乃借软件以建模并仿真光刻之全程，用光掩模文件之数学预处理，以调光学光刻中之像差与效果，优化光源与光罩之形状，减光刻成像与芯片设计之差距，使光刻效果符合预期，从而提高良品率。闻者言，用cuLitho计算光刻库，可将工作负载转为GPU并行处理，五百NVIDIA DGX H100之力，可当四万CPU所成之系统。

英伟达又称，用GPU而非CPU运算，可使计算光刻之效增四十倍，晶圆厂之负担亦大减矣。